產品名稱：EC-201 CR蝕刻液 | 點閱次數：2262 | 加入時間：2012/9/18 下午 02:20:16
圖片簡介：
EC-201 CR蝕刻液光電產業用蝕刻製程化學品，適用於蝕刻Cr鉻金屬層，利用特定鉻金屬蝕刻液溶液 (EC-201)與鉻金屬薄膜間所進行的氧化還原化學反應，去除未被光阻覆蓋的鉻金屬，以達到鉻金屬線路成形之目的。 金蝕刻、KOH銀蝕刻、鋁蝕刻、SiO2蝕刻、去光阻劑(液)、蝕刻速率、硝酸銨鈰、稀土、Solder clean、王水、草酸、ITO蝕刻液、KI、CAN50、CR蝕刻液 | 
