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產品名稱:EC-201 CR蝕刻液
產品名稱:EC-201 CR蝕刻液 | 點閱次數:1449 | 加入時間:2012/9/18 下午 02:20:16
圖片簡介:
EC-201 CR蝕刻液

光電產業用蝕刻製程化學品,適用於蝕刻Cr鉻金屬層,利用特定鉻金屬蝕刻液溶液 (EC-201)與鉻金屬薄膜間所進行的氧化還原化學反應,去除未被光阻覆蓋的鉻金屬,以達到鉻金屬線路成形之目的。

金蝕刻、KOH銀蝕刻、鋁蝕刻、SiO2蝕刻、去光阻劑(液)、蝕刻速率、硝酸銨鈰、稀土、Solder clean、王水、草酸、ITO蝕刻液、KI、CAN50、CR蝕刻液

 
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