| 有機光阻去除濟的用途是去除含有金屬環境下的光阻。一般來說，光阻去除濟被使用在柔軟、被曝光後或含粉狀的光阻。甚至有些去除濟是特別設計給side well polymers。光阻去除濟通常是容溶劑是未來的趨勢。去除光阻必須在高於常溫下(40。C至40。C)進行;用噴撒設備(spray tools)與循環浸泡兩種設備來去除光阻。對於無法溶解於溶液的光阻，它們必需被過濾以減少晶圓上的粒子數。當然，化學品在供應端已被過濾，以確保輸送到機台端的化學品是潔淨的。
■ 過濾上的問題
1.過濾材質:
過濾上必須考慮到的問題有粒子承載量、流量、過濾器的抗化性與化學品粘滯性。去除劑的功能是溶解聚合物，所以過濾器必需具有足夠的抗化性以防止在高溫下被去除劑腐蝕。Teflon FA與PTFE材質的過濾器是最常被使用的；因為其抗化性好並且耐高溫。然而，有些化學品還是會侵蝕PTFE的結構而使其變色或表面粗糙。
P.P(Polypropylene)PE(Polyethylene)材質的過濾器也可以被使用在大多數的去除劑，條件是溫度必須低於70 °C。PE的過濾器使用在多數去除劑中不需預濕(pre-wet)；而P.P的深層過濾器(depth filter)在循環系統中有時被使用作預過濾(pre-filtration)。
2.O型環(O-ring)的抗化性:
TEV(Teflon Encapsulated Viton)的O型環使用在去除劑上有一定的使用時間限制。尤其是在高溫環境(高於80°C)下，建議使用Chemraz TM SD505或SD570與Kalrez 1050LF(除4073、4079) O型環;另外，如要使用較便宜的O型如:TES(Teflon Encapsulated Silicon)或TEEPR(Teflon Encapsulated ERR)是不錯的選擇。TEERR則尤其適用於NMP去除劑。
3.過濾器的預濕:
對於PTFE材質的過濾器，去除劑表面張力低於27dynes/cm不需預濕，介於28~32dynes/cm則可使用加壓的方法潤濕;而高於32dynes/cm的去除劑則必須用IPA預濕。有些去除劑特別敏感於水，所以必須先以100%IPA預濕；一些去除劑(尤其是ACSI ST-200與ST-230)不相容於IPA，所以IPA預濕後須用水完全沖洗以去除IPA。
4.靜電
光阻去除劑的特性大多是易燃與低傳導性。如果去除劑流經一個非傳導性材質PTFE的濾膜，會產生靜電，所以過濾器的上游與下游必需裝有接地線。保持低流速也是減少靜電產生的方法之一。
■ 光阻去除劑的過濾最佳化
一個典型的光阻去除程序是：兩槽去除劑後是二槽IPA，然後浸水與烘乾或IPA蒸氣烘乾。如果無法很好的控制第一槽的粒子數則會造成整個製程上的污染。高的流速可以使槽的turnover加快與提供足夠的剪應力使光阻膠溶解。大孔徑的過濾器可以達到高的流速。使用P.P材質過濾器於粗過濾可以延長終端過濾器的使用時間。PE材質的過濾器可以立刻被大多數的去除劑潤濕且價格便宜，但建議使用在低於70 °的環境。
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