| 泛半導體和金屬表面處理製程中 蒸鍍、濺鍍、蝕刻、薄膜、電漿清潔等 chambers
( load-locks, cooldown, transfer及 process chambers) 有可能因為揚塵 particles造成良率偏低 怎麼辦？
改善 Chamber 破真空擾流Particle污染的解決方法就是加裝Gas Diffuser
可完成 vent up的動作, 而避免 particle問題提昇良率。
在全球進口貨運吃緊 交期不穩定 及 少數規格 、價格居高不下 之下我們特別推廣台灣製造可以客製的Diffuser。
若有需求請聯繫我們 03-6565-657 #210
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